*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機(jī) 歡迎咨詢

簡(jiǎn)要描述：*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機(jī) 高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),,高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)：

所屬分類：高速剪切分散機(jī)

更新時(shí)間：2024-08-26

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【產(chǎn)品介紹】

一、產(chǎn)品名稱：高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)

二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用

氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點(diǎn)。高純氧化鋁氧粉，又稱三氧化二鋁，分子量102，是一種白色無(wú)定形粉狀物，俗稱礬土。

高純氧化鋁的應(yīng)用：

一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于先進(jìn)陶瓷，4N主要應(yīng)用于熒光粉，5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級(jí)陶瓷等。

：應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對(duì)純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。

中端：應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈，藍(lán)寶石襯底，對(duì)純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。

低端：集成電路基板、消費(fèi)電子，紫外固化涂料等方面的應(yīng)用，需要使用4N級(jí)別左右的高純超細(xì)氧化鋁，整體要求相對(duì)較低。

三、高純氧化鋁粉的應(yīng)用工藝

主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中，然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無(wú)法滿足分散效果的要求，傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低，一般為3000rpm。而采用CIK管線式研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，將膠體磨和分散機(jī)一體化，先研磨后分散，分散粒徑更小，粒徑分布更均勻。

四、CIK化工研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)

1、上海CIK研磨式分散機(jī)可以很好的解決這一問(wèn)題，“膠體磨+分散機(jī)”的*結(jié)構(gòu)，一級(jí)研磨模塊可以將團(tuán)聚體研磨打開，第二級(jí)分散模塊再瞬間對(duì)物料進(jìn)行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。

2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm，難以分散。而CIK研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切速率高，可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。  

3、CIK研磨分散機(jī)采用管線式分體式結(jié)構(gòu)，物料從進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備工作腔中，進(jìn)行處理，然后再?gòu)某隹诖虺觯锪享樌玫募羟屑?xì)化分散，產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn)，滿足大工業(yè)化生要求。

五、NKD2000系列高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)選型表

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