簡(jiǎn)要描述：黑色素碳黑研磨分散機(jī) 碳黑，顧名思義，是一種黑色素。粉體先與液體混合，再研磨到需要的細(xì)度。為防止污染，粉體添加工序必須在特殊區(qū)域完成，CIK設(shè)備可以將碳黑研磨到1微米以下，良好的密封性能，能防止產(chǎn)品污染生產(chǎn)區(qū)域。
產(chǎn)品型號(hào)： CR2000/4
所屬分類(lèi)：化工級(jí)研磨分散機(jī)
更新時(shí)間：2024-08-26
黑色素碳黑研磨分散機(jī)，碳黑分散機(jī),碳黑研磨機(jī),碳黑分散 碳黑分散 碳黑，顧名思義，是一種黑色素。粉體先與液體混合，再研磨到需要的細(xì)度。為防止污染，粉體添加工序必須在特殊區(qū)域完成，CIK設(shè)備可以將碳黑研磨到10微米以下，良好的密封性能，能防止產(chǎn)品污染生產(chǎn)區(qū)域。
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黑色素碳黑研磨分散機(jī) 碳黑，顧名思義，是一種黑色素。粉體先與液體混合，再研磨到需要的細(xì)度。為防止污染，粉體添加工序必須在特殊區(qū)域完成，CIK設(shè)備可以將碳黑研磨到1微米以下，良好的密封性能，能防止產(chǎn)品污染生產(chǎn)區(qū)域。
CIK工業(yè)設(shè)備用于分散/研磨碳黑的優(yōu)點(diǎn)
改善清潔。使用CIK出產(chǎn)的粉體/液體混合機(jī)可以直接混合粉體和液體，無(wú)需做預(yù)混合處理。
提升品質(zhì)。CIK高剪切混合分散設(shè)備可以將碳黑研磨到8 Hegman，優(yōu)于其他品牌高剪切分散設(shè)備。同時(shí)，CIK混合設(shè)備以窄分布范圍*。
縮短工藝時(shí)間。CIK設(shè)備所需的加工時(shí)間要少于傳統(tǒng)介質(zhì)研磨設(shè)備。
碳黑研磨分散機(jī)碳黑分散機(jī) 研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
CR2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
CR2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
CR2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
CR2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
CR2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
CR2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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