納米膠體磨

簡要描述：納米膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

產(chǎn)品型號： NK2000

所屬分類：高剪切膠體磨

更新時間：2024-08-24

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  納米膠體磨。NK2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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  納米膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。

CIK納米高剪切膠體磨。NK2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    CIK納米高剪切膠體磨  三級錯齒結構的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

影響分散研磨結果的因素有以下幾點

1、膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）
2、膠體磨頭的齒形結構（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
3、物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
4、循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 
– 剪切速率 (s-1) =     v  速率 (m/s)   
             g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素： 
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
CIK 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

zui高轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。此款膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上，分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好。

 納米膠體磨信息來源于：http://www.ciksh。。ｃｏｍ/ProductShow_16.html